- +8618437960706
- دوشنبه تا شنبه: 10:00 - 16:00 / یکشنبه تعطیل است
عایق‌های الکتریکی. از فیلم‌های نازک برای عایق‌کاری نیز استفاده می‌شود. کاربرد لایه‌های نازک عایق در جدا کردن قسمت‌های رسانا از یک‌دیگر در وسایل نیمه رسانا است و نیز از فیلم نازک عایق، معمولاً از جنس اکسید سیلیکون ...
به خواندن ادامه دهید
با افزودن موادی با فرآیندهای شیمیایی خاص به سیلیکون می توان نواحی نازکی به وجود آورد که به یکی از سه قطعه زیر تبدیل می شود: 1- رسانای بسیار خوب الکتریسیته (با استفاده از سیم آلومینیومی یا مسی ...
به خواندن ادامه دهید
ضریب انتقال حرارت این خمیر سیلیکون ۵ وات بر متر-کلوین است و می‌تواند دمای پردازنده را به طور قابل توجهی کاهش دهد. با پرداخت حدود ۱۵۰ هزار تومان می‌توانید این خمیر سیلیکون را از دیجی‌کالا ...
به خواندن ادامه دهید
تولید عنصر سیلیسیم (سیلیکون) از طریق فرآیند کاهش کوارتزیت یا ماسه به همراه کک با خلوص ۹۶-۹۹ درصد صورت می گیرد. این فرآیند کاهشی بوده و در یک کوره قوس الکتریکی با مقدار اضافی (SiO2) انجام خواهد شد.
به خواندن ادامه دهید
با الکترولیز منیزیم کلرید، از منیزیم تولیدی دوباره در فرآیند کاهش استفاده می‌کنند و کلر تولیدی را نیز در بخش کلر زنی بکار می‌گیرند. خالص‌سازی تیتانیوم به کمک تقطیر با دمای بالا انجام می‌شود.
به خواندن ادامه دهید
چسب‌های سیلیکونی در مقایسه با سایر چسب‌های ساخته‌شده بر اساس پلیمرهای آلی، خواص ویژه‌ای دارند زیرا سیلیکون‌ها دارای ویژگی‌های شیمیایی متفاوتی هستند. آن‌ها در دمای پایین، -100 درجه ...
به خواندن ادامه دهید
سیلیکون سیاه یک ماده نیمه رسانا است، سطح سیلیکون بازتاب بسیار کمی دارد و به همین خاطر جذب نور مرئی (و مادون قرمز) بالایی دارد.. سیلیکون سیاه در دهه ۱۹۸۰ به‌طور اتفاقی توسط حکاکی یونی واکنشی (rie) کشف شد.
به خواندن ادامه دهید
ویفر سیلیکون لایه نازک و براقی است که تراشه‌های رایانه و گوشی روی آن پیاده‌سازی می‌شوند. ... در ماسه‌های عادی هم وجود دارد اما خلوصش تنها حدود 80 درصد است که برای صنعت نیمه‌رسانا و ساخت ...
به خواندن ادامه دهید
یک فرآیند باستانی ساخت فولاد فرآیند تولید فولاد با بوته آهنگری بود. در دهه های ۱۸۵۰ و ۱۸۶۰، فرایند بسمر (Bessemer ) و فرآیند زیمنس-مارتین (Siemens-Martin)، فولادسازی را به یک صنعت سنگین تبدیل کرد.
به خواندن ادامه دهید
تراشه قطعه‌ای داخل رایانه است که برای چک کردن مدارها و تبادل اطلاعات منطقی (صفر و یک) به کار برده می‌شود. یک تراشه ممکن است ابعادی به اندازه یک اینچ در یک اینچ داشته باشد و حاوی ده‌ها میلیون ...
به خواندن ادامه دهید
ب – محدوده سختی از 0000 shore A تا 70 shore D محدوده سختی 10 تا 80 آزمون دورومتر shore A که با لاستیک سیلیکون پیشنهاد شد، به طراح این آزادی را می‌دهد که سختی مورد نظر را برای انجام بهتر عملکردی خاص انتخاب کند.
به خواندن ادامه دهید
هدایت الکتریکی یک الکترولیت معیاری برای قابلیت گذردهی الکتریسیته و واحد آن در SI، «زیمنس بر متر» $$(S / m)$$ است. اندازه‌گیری هدایت الکتریکی در صنعت و محیط زیست به عنوان یک روش ارزان و قابل اعتماد برای بررسی میزان یون موجود ...
به خواندن ادامه دهید
ویفر سیلیکون (Wafer Silicon) چیست؟. ویفر به تکه بسیار باریکی از یک ماده نیمه‌رسانا مانند بلور سیلیکون می‌گویند که درصد خلوص آن بسیار بالا و نزدیک به 10 درصد است. ویفر سیلیکونی مولفه اصلی در تولید و ...
به خواندن ادامه دهید
غیرفعال سازی [۱] (به انگلیسی: Passivation) در شیمی‌فیزیک به فرایند مقاوم شدن فلزات در مقابل خوردگی و زنگ زدگی گفته می‌شود. همچنین به ماده ای ارجاع می‌شود که ماده در آن در حال منفعل شدن است، یعنی در ...
به خواندن ادامه دهید
شکل 2- فرایندهای AOPs الکتروشیمیایی مبتنی بر نانومواد مهندسی. فرایندهای آندی و کاتدی، حذف آلاینده‌ها را از طریق واکنش‌های اکسایش-کاهش در سطح الکترود یا با تولید رادیکال‌ها تسهیل می‌کند.
به خواندن ادامه دهید
با این حال، استفاده از خمیر حرارتی مایع معمولاً دشوار است. چراکه باید توجه کنید که خمیر مستقیماً روی CPU یا GPU اعمال شود، بدون اینکه آسیبی به آن وارد شود. هنگامی که ویسکوزیته خمیر افزایش می یابد ...
به خواندن ادامه دهید
اساسا، یک اتصال دهنده برای LIBهای مبتنی بر آند سیلیکون باید حداقل دارای نقش‌های کاربردی زیر باشد: ۱) ماهیت پراکنده و غلیظ کننده: یک بایندر باید هم به عنوان عامل پراکنده و هم به عنوان عامل غلیظ ...
به خواندن ادامه دهید
مخزن‌هایی که برای فرایند زدایش مورد استفاده قرار می‌گیرد زُدایش یا اِچینگ (به انگلیسی : Etching ) فرایندی شیمیایی در میکروساخت است که برای حذف لایه‌هایی از سطح ویفرها مورد استفاده قرار می‌گیرد.
به خواندن ادامه دهید
فرایند های حالت جامد ... تنها یک واکنش مهم تخصصی است، بلکه یک مثال هسته زایی اولیه و رشد بر روی جوانه ی اولیه است که در آن مکان های هسته زایی می توانند نقش قاطعی را در روند تشکیل و نظم جسم انباشتی ...
به خواندن ادامه دهید
نام سیلیکون از کلمه لاتین silex یا silicis به معنای سنگ سخت یا سنگ گرفته شده است. سیلیکون آمورف برای اولین بار در سال 1824 توسط شیمیدان سوئدی یوناس یاکوب برزلیوس جداسازی و به عنوان پایه توصیف شد.
به خواندن ادامه دهید
سیلیکون (به انگلیسی : Silicone) که پلی‌سیلوکسان (به انگلیسی : polysiloxanes) نیز نامیده می‌شود، پلیمرهایی هستند که شامل هر ترکیب مصنوعی ساخته شده از واحدهای تکرار شونده سیلوکسان (به انگلیسی : siloxane) باشد ...
به خواندن ادامه دهید
چندین شرکت کلیدی در فضای کاربید سیلیکون منابع و محصولات فراوانی را با محوریت SiC ارائه می دهند. Cree Wolfspeed انواع محصولات کاربید سیلیکون مانند ماسفت ها، دیودها، AOS-Q101 (خودرو) MOSFET را ارائه می دهند.
به خواندن ادامه دهید
فرآیند تولید تزریق مایع یا lim می‌تواند سیلیکون لاستیکی را به انواع مختلفی از قطعات و محصولات تبدیل نماید. بر خلاف روش مرسوم تزریق که بر پایه ایجاد فشار بر روی مواد بوده، روش تزریق مایع شامل ...
به خواندن ادامه دهید
پوشش های پلیمری (polymer coating) نسبت به پوشش های فلزی و پوشش های سرامیکی تقریبا برای هر نوع زیرلایه ای حتی کامپوزیت ها استفاده می گردند.. به طور کلی، هر نوع ماده ای را می توان به عنوان پوشش بر روی مواد دیگر، که به آن زیرلایه ...
به خواندن ادامه دهید
خواص فیزیکی و شیمیایی سیلیس. سیلیس که دی اکسید سیلیکون (iv) نامیده می شود ساختاری مشابه الماس دارد. یعنی هر اتم سیلیکون توسط یک اتم اکسیژن به اتم های همسایه خود متصل می شود. به یاد داشته باشید که این بخش کوچکی از یک ساختار ...
به خواندن ادامه دهید
سیلیکون با خلوص 96-99 درصد را از طریق فرآیند کاهش کوارتزیت یا ماسه به همراه کُک با خلوص بالا تولید می‌کنند. این فرآیند کاهشی در یک کوره قوس الکتریکی با مقدار اضافی $$SiO_2$$ انجام خواهد شد تا از تجمع ...
به خواندن ادامه دهید
سلول خورشیدی فیلم نازک (tfsc)، که سلول فتوولتائیک فیلم نازک (tfpv) نیز نامیده می‌شود، نسل دوم سلول‌های خورشیدی است که از قرار دادن یک یا چند لایه یا پوشش نازک (tf) از مواد فتوولتائیک بر روی لایه‌ای از شیشه، پلاستیک یا فلز ...
به خواندن ادامه دهید
حرارت دهی به قطعات برای اجرای سخت کاری فلزات به روش آس پخت. تفاوت اصلی بین آس پخت با دیگر روش های سخت کاری، دمای حرارت دهی، مدت زمان نگهداری دما و محیط کوئینچینگ است. این فرآیند با رساندن دمای ...
به خواندن ادامه دهید
تولید سیلیکون. یک روش مرسوم تولید تک بلور سیلیکون، روش Czochraski (CZ) Crystal growing است. سیلیکون های مورد استفاده در آی سی ها عمدتا از این روش تولید می گردند. در این روش Si با خلوص مناسب را درون کوره …
به خواندن ادامه دهید
برای تولید قطعات با سیلیکون رسانا میتوان از قالب های فشاری و یا تزریقی استفاده نمود. استفاده از قالب های انتقالی نیز برای تولید قطعات بعد از رسانا کردن لاستیک و سیلیکون، مناسب خواهد بود. در ...
به خواندن ادامه دهید
کاربردهای ترانزیستور ماسفت. قبلاً گفتیم که ماسفت برای سوئیچ یا تقویت ولتاژ در مدارها استفاده می شود، با این حال، ماسفت موارد دیگری هم مورد استفاده قرار می گیرد.
به خواندن ادامه دهید
ماشینکاری التراسونیک. ماشینکاری التراسونیک (به انگلیسی: Ultrasonic machining) به صورت مخفف (USM) یکی از فرایندهای غیر سنتی ماشینکاری مکانیکی می‌باشد این فرایند به منظور ماشینکاری مواد سخت و یا شکننده ...
به خواندن ادامه دهید
سیلیکون یکی از بهترین ماده هایی است که میتوان در تولید محصولات مختلف از آن استفاده نمود. رسانا کردن لاستیک و سیلیکون با تکنولوژی های به روز باعث شده است تا بتوان از آن به صورت وسیع تر در بسیاری از محصولات الکتریکی نیز ...
به خواندن ادامه دهید
خمیر سیلیکون کمک می‌کند تا منافذ میکروسکوپی بین دو سطح صاف مانند سطح CPU و Heat Sink پر شود و به این ترتیب به انتقال بهتر حرارت کمک می‌کند و CPU سرور و کامپیوتر شما بهتر خنک می‌شود. اما استفاده نکردن ...
به خواندن ادامه دهید
LIM1530 شرکت SQUARE یک لاستیک سیلیکونی مایع دو بخشی با رسانایی الکتریکی است که برای فرآیندهای قالب تزریقی بکار می رود.این لاستیک سیلیکون با مواد پلاتینیوم محافظت شده که با نسبت وزنی 1:1مخلوط می شوند ...
به خواندن ادامه دهید